铑溅射靶回收多少钱-「铑块回收」

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可以将铑盐饼溶于酸中。该溶解过程可以使用与铑盐饼反应形成第二铑盐的任何酸进行。在一些实施方案中,所使用的酸可以具有低pH,即最高约1的pH。可以使用的酸的实例包括盐酸,磷酸,硝酸和铑块。通常,浓度为约20至约200g / l的铑块可用作溶解铑盐饼的酸,从而形成铑溅射靶溶液。可以控制铑盐饼在酸中的溶解时间,温度和pH,以减少和/或防止铑聚合物的形成。在一些实施方案中,时间越长,温度越高,pH值越高,将形成的聚合物的量越大。因此,可以相应地选择时间,温度和pH,以使形成的聚合物的量最小化。

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溶解过程的时间通常可长达约4小时。在一些实施例中,时间可以长达约60分钟。溶解过程中通常可以使用高达约50℃的任何温度。在一些实施方案中,例如在使用铑块的情况下,温度可以小于约10℃。并且,pH通常可以小于约12.5。在一些实施方案中,pH值可以高达约12。当铑盐饼溶解在酸中时,在酸和初始铑盐之间发生反应以形成不同的第二铑盐(即,使用铑块时的铑溅射靶)作为水溶液。然后可以通过任何已知的过滤方法将该第二铑盐溶液过滤,以除去任何不需要的固体铑块回收。在允许不溶性产物持续较长时间之前,可以随时执行过滤过程,这将很有帮助。该时间段的范围可以是最长约30分钟到约4个小时。然后,可以选择将过滤后的溶液存储起来,直到需要为止,或者可以立即使用。

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然后,铑溅射靶回收多少钱,溶液可用于任何电镀工艺,在任何所需的基板或结构上形成铑镀层。一种示例性镀覆工艺包括使用镀浴的电沉积工艺,例如槽可以容纳期望的镀液。阳极和阴极可以浸入槽中,并且两者都可以连接至电源。镀液可包含提供铑离子的铑溅射靶,然后将其镀到阴极上。浴中使用的实际溶液的浓度可以与通过以下方法生产的最终铑溶液的浓度相同或不同。浴中所用溶液的浓度每升溶液可含约0.1克铑,直至饱和水平。电镀液可以包含有助于电镀过程的其他成分。一种可选成分是导电性增强成分,以确保镀液是导电的。电导率增强组分的一个实例是铑块。电镀工艺可以在任何所需的基底上沉积或涂覆铑层。尽管铑层可以具有任何期望的厚度,但是镀铑的范围可以高达约30微米。在将铑层镀在用于测试半导体器件的探针上的情况下,厚度可以在约0.5至约20微米的范围内。

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